根據(jù)高鉻鑄鐵具有熱導率低，塑性差，收縮大，易產(chǎn)生組織粗大甚至縮松的鑄造缺陷，加之高鉻鑄鐵所加的合金元素多，鐵液熔渣較多，易在鑄件中產(chǎn)生夾渣的缺陷，為此，澆注系統(tǒng)設計為帶離心集渣包和暗側(cè)冒口相結合的綜合性鑄造工藝方案，以消除鐵液中的夾渣和對鑄件進行有效地補縮。
離心式集渣包可在澆注過程中緩和、平穩(wěn)金屬液，利于金屬液中熔渣的上浮，從而消除金屬液中的雜質(zhì)，防止鑄件產(chǎn)生夾渣缺陷；暗側(cè)冒口的設計可根據(jù)體收縮法，由冒口的補縮區(qū)域、補縮效率與金屬液的液態(tài)體收縮率確定，冒H壓頭高度一般不得低于鑄件最高點100mm，根據(jù)蝸殼的結構、形狀及大小的不同，蝸殼的工藝出品率一般在60％～90％之問。為避免用氣割法切除冒口產(chǎn)生裂紋的弊端，暗側(cè)冒口在設計上可預先做出易斷臺，冒口可用敲擊的方法在易斷臺斷裂去除。由于澆注系統(tǒng)通過冒口進入鑄件，大大提高冒口的補縮效率，從而保證了鑄件的內(nèi)在品質(zhì)。
蝸殼的澆注系統(tǒng)總體采用半封閉式，此澆注系統(tǒng)利于擋渣和充型平穩(wěn)。
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